化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備

簡(jiǎn)要描述：化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP（化學(xué)機(jī)械拋光液）（包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類(lèi)化學(xué)機(jī)械拋光液）的分散和各種微納米材料、新能源材料、無(wú)機(jī)阻燃劑等的破碎、分散、分級(jí)、改性等。

產(chǎn)品型號(hào)：NP-CMP
廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家
更新時(shí)間：2023-12-20
訪(fǎng) 問(wèn) 量：4789

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化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP（化學(xué)機(jī)械拋光液）（包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類(lèi)化學(xué)機(jī)械拋光液）的分散和各種微納米材料、新能源材料、無(wú)機(jī)阻燃劑等的破碎、分散、分級(jí)、改性等。

化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備的特點(diǎn)：

經(jīng)過(guò)測(cè)試的工藝路線(xiàn)，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)

智能控制，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，完整數(shù)據(jù)存儲(chǔ)，直觀顯示圖表

轉(zhuǎn)速可調(diào)，溫度可控，超聲波強(qiáng)度可調(diào)，可定時(shí)

操作方便簡(jiǎn)潔，清洗容易

技術(shù)參數(shù)：

Items	實(shí)驗(yàn)型Experiment Type	生產(chǎn)型Production Type
溫度Temperature（℃）	-30℃~80℃	-20℃~80℃
分散方式Dispersion Type	連續(xù)式continuous	連續(xù)式continuous
材質(zhì)Material quality	玻璃、不銹鋼、鈦 glass or stainless steel	不銹鋼、鈦stainless steel
規(guī)格Specification	依容積depend on volume	定制customized
流量Flow rate	50~1000ml/min	可定制customized
介質(zhì)粘度media viscosity	≤104cP	≤104cP
攪拌轉(zhuǎn)速agitation speed	500~3000rpm依實(shí)際需求選擇	500~3000rpm依實(shí)際需求選擇
剪切轉(zhuǎn)速agitation speed	1400~20000rpm依實(shí)際需求選擇	1400~12000rpm依實(shí)際需求選擇
電源Power	220V/50Hz	220V/50Hz 、380V/50Hz
超聲功率Ultrasonic power	200~3000W	定制customized
超聲頻率Ultrasonic Frequency	20KHz、28KHz、40KHz、68KHz	20KHz、28KHz、40KHz、68KHz
顯示方式Display model	數(shù)顯、液晶觸摸屏digital display,LCD touch screen 依據(jù)需要可選擇	液晶觸摸屏LCD touch screen
其它Others	溫度、功率可調(diào)Temperature、power adjustment

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